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采用提拉法生长出大尺寸（111）铜单晶,晶体尺寸为Ф （12~19）mm×85 mm。通过XRD、金相显微分析讨论了铜单晶的晶体结构与生长缺陷,并采用双臂电桥测定（111）铜单晶的电阻率。结果表明：晶体具有（111）取向、强度高,表明晶体取向良好;蚀坑呈典型三角锥形,位错密度在105~106cm-2之间;在室温下,（111）铜单晶电阻率为1.289×10-8Ω·m。