【摘 要】
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氢同位素在钯中的沉积行为与它在钯靶中的溶解度、扩散速率以及缺陷的束缚有关.为研究氘离子在钯中的沉积行为,利用氘离子诱发D-D核反应的方法研究了氘在钯中的动态和静态浓
【机 构】
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兰州大学核科学与技术学院 兰州 730000
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氢同位素在钯中的沉积行为与它在钯靶中的溶解度、扩散速率以及缺陷的束缚有关.为研究氘离子在钯中的沉积行为,利用氘离子诱发D-D核反应的方法研究了氘在钯中的动态和静态浓度,并建立扩散模型对实验结果进行了分析.研究发现,除稳定束缚在缺陷中的氘之外,束流注入时动态氘浓度还包含自由扩散的氘以及非稳定束缚态氘;自由扩散的氘以及非稳定束缚态氘随着氘离子的注入而增加,当注入达到饱和后,这两部分氘浓度处于动态平衡状态,停束后将迅速减少直至消失;由于辐照损伤所造成的缺陷存在饱和值,稳定束缚在缺陷中的静态氘浓度为x=(0.42±0.03)%;结合模拟计算,发现钯的缺陷对氢同位素的吸附系数、解吸附系数及其比值kA/kD与材料损伤特性及氢同位素的注入方式有关.
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