【摘 要】
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利用电子束直写系统和反应离子束刻蚀的方法制作了周期性排列H-形空气槽.样品的参量：金膜的厚度为120nm,石英基底的厚度0.8mm（其中有5nm厚的铬层）,样品是由30×30个单个H-形
【机 构】
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北京工商大学计算机与信息工程学院,天津大学精仪学院激光与光电子研究所
【基金项目】
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国家自然科学基金（2007CB310403）资助
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利用电子束直写系统和反应离子束刻蚀的方法制作了周期性排列H-形空气槽.样品的参量：金膜的厚度为120nm,石英基底的厚度0.8mm（其中有5nm厚的铬层）,样品是由30×30个单个H-形周期排列形成的,总体尺寸为40×40μm2.每个H-形之间的周期为1.1μm,H-形的臂长均为500nm,空气槽的宽度为120nm.然后用实验的方法测量了在近红外波段的透过曲线,在近红外波段1.6μm处的透过率约为16.3%,用传输矩阵的方法对H-形空气槽结构进行了理论模拟,实验与理论模拟结果吻合较好.
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