化学有序AlxGa1-xN合金的第一性原理研究

来源 :湘潭大学自然科学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhanghai_007

【摘要】

：

基于第一性原理方法系统研究了化学有序结构AlxGa1-xN合金的结构特征和电子性质.结果表明：随着组分x的增大,化学有序结构AlxGa1-xN合金的晶格常数逐渐减小,而结构稳定性变强.

【作者】

：

潘正贵唐壁玉凡头文杨芳武健王继伟

【机构】

：

湘潭大学材料与光电物理学院

【出处】

：

湘潭大学自然科学学报

【发表日期】

：

2011年2期

【关键词】

：

ALXGA1-XN 化学有序能带结构第一性原理半导体 AlxGa1-xN； chemically ordered； band structure； fir

【基金项目】

：

基金项目：国家自然科学基金项目（50861002,51071053）,湖南省材料设计与制备工艺重点实验室开放项目（KF0803）

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基于第一性原理方法系统研究了化学有序结构AlxGa1-xN合金的结构特征和电子性质.结果表明：随着组分x的增大,化学有序结构AlxGa1-xN合金的晶格常数逐渐减小,而结构稳定性变强.计算的电子结构揭示：化学有序结构AlxGa1-xN合金是直接带隙半导体,其带隙随着x的增大而变宽.化学有序化对带隙变化的影响可能源于量子阱的局域化,且化学有序结构AlxGa1-xN的化学键是包含明显离子特性的共价键.

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