论文部分内容阅读
采用微弧氧化技术，用处理电压为300，350，400，450，500V在工业纯钛表面制备了5块氧化膜试样，利用扫描电镜和拉曼光谱研究了处理电压对氧化膜结构的影响。结果表明：氧化膜表面布满了微孔，其尺寸随处理电压的升高而增加，而微孔密度则呈相反的变化趋势。氧化膜主要由锐钛矿和金红石相组成，其相含量与处理电压的大小密切相关。当处理电压较低时，氧化膜主要由锐钛矿相组成；随着处理电压的升高，氧化膜中金红石相的相对含量增加；当处理电压在400~450V时，金红石相含量增加迅速，并成为主晶相。