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针对近年来国内外的化学气相沉积（CVD）金刚石膜的抛光方法（机械抛光、热化学抛光、化学辅助机械抛光、电蚀抛光和高能抛光等）的原理、优缺点进行了分析论述,指出了今后金刚石膜抛光研究中亟待解决的问题,并展望了CVD金刚石膜抛光技术的发展趋势。
CVD金刚石膜抛光技术综述
【摘 要】
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针对近年来国内外的化学气相沉积（CVD）金刚石膜的抛光方法（机械抛光、热化学抛光、化学辅助机械抛光、电蚀抛光和高能抛光等）的原理、优缺点进行了分析论述,指出了今后金刚石膜抛
【机 构】
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沈阳理工大学,长春理工大学
【出 处】
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中国机械工程
【发表日期】
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2011年1期
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