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<正> 随着大规模集成电路集成度的不断提高,加工线条越来越细,对硅抛光片的弯曲度要求也越来越高。1985年联邦德国瓦克公司的产品标准中,3英寸硅抛光片弯曲度的典型值为15μm;4英寸硅抛光片弯曲度的典型值为20μm。而1986年瓦克公司的产品标准,3英寸硅抛光片弯曲度的典型值小于
硅片背面处理对弯曲度影响的试验分析
【摘 要】
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<正> 随着大规模集成电路集成度的不断提高,加工线条越来越细,对硅抛光片的弯曲度要求也越来越高。1985年联邦德国瓦克公司的产品标准中,3英寸硅抛光片弯曲度的典型值为15μm
【机 构】
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广州半导体材料研究所,广州半导体材料研究所,广州半导体材料研究所,广州半导体材料研究所
【出 处】
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稀有金属
【发表日期】
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1988年04期
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