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偏置条件对NMOS器件X射线总剂量效应的影响
偏置条件对NMOS器件X射线总剂量效应的影响
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:buerzui
【摘 要】
:
采用10keVX射线,对NMOSFET在不同偏置条件下进行总剂量辐射,分析了辐照前后辐射感生的氧化物陷阱电荷与界面态电荷对MOS器件阈值电压的影响以及辐射导致漏电现象。实验结果表明
【作 者】
:
何玉娟
恩云飞
师谦
罗宏伟
章晓文
李斌
刘远
【机 构】
:
电子元器件可靠性物理及其应用技术国家级重点实验室,华南理工大学微电子研究所
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
2008年2期
【关键词】
:
X射线
总剂量辐射效应
辐射偏置
中带电压法
X-ray Total-dose irradiation effect Radiation bias Midgap
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采用10keVX射线,对NMOSFET在不同偏置条件下进行总剂量辐射,分析了辐照前后辐射感生的氧化物陷阱电荷与界面态电荷对MOS器件阈值电压的影响以及辐射导致漏电现象。实验结果表明,对于NMOSFET,On偏置条件是最劣偏置条件,Off偏置条件是最优偏置条件。
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