Studies on the Syntheses and Properties of UV-sensitive Organosilicon Monomers and Polymers

来源 :Chemical Journal of Chinese Universities | 被引量 : 0次 | 上传用户：jiajiadedaan1

【摘要】

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Photosensitive organosilicon monomers and polymers containing furylacrylate, cinnamate or methacrylate groups were synthesized. The chemical structure of these

【出处】

：

Chemical Journal of Chinese Universities

【发表日期】

：

1989年1期

【关键词】

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PHOTOSENSITIVE POLYSILOXANES UV-CURING Furylacrylates CINNAMATES METHACRYLATES P

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Photosensitive organosilicon monomers and polymers containing furylacrylate, cinnamate or methacrylate groups were synthesized. The chemical structure of these organosilicon monomers were confirmed by 1H NMR and elemental analysis.The curing rates of thes

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