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用于铬原子光刻的超高真空原子源的研制
用于铬原子光刻的超高真空原子源的研制
来源 :激光与红外 | 被引量 : 0次 | 上传用户:minisnake1
【摘 要】
:
原子光刻技术中,良好原子源的产生是最为基础的条件。针对实验中对原子束的具体要求,设计了一套超高真空原子源产生装置,主要参数为:系统工作真空度优于5.0×10~Pa,铬原子源温度
【作 者】
:
张文涛
李同保
【机 构】
:
同济大学物理系,桂林电子科技大学电子工程系
【出 处】
:
激光与红外
【发表日期】
:
2007年2期
【关键词】
:
原子光刻
铬原子源
超高真空
atom lithography
chromium atomic sources
ultra-high vacuum
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原子光刻技术中,良好原子源的产生是最为基础的条件。针对实验中对原子束的具体要求,设计了一套超高真空原子源产生装置,主要参数为:系统工作真空度优于5.0×10~Pa,铬原子源温度为1650℃,铬原子最可几速率为960m/s,原子炉口所喷射出的铬原子数为N=1.5×10^17s^-1。
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