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原子光刻技术中，良好原子源的产生是最为基础的条件。针对实验中对原子束的具体要求，设计了一套超高真空原子源产生装置，主要参数为：系统工作真空度优于5．0×10～Pa，铬原子源温度为1650℃，铬原子最可几速率为960m／s，原子炉口所喷射出的铬原子数为N=1．5×10^17s^-1。
用于铬原子光刻的超高真空原子源的研制
【摘 要】
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原子光刻技术中，良好原子源的产生是最为基础的条件。针对实验中对原子束的具体要求，设计了一套超高真空原子源产生装置，主要参数为：系统工作真空度优于5．0×10～Pa，铬原子源温度
【机 构】
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同济大学物理系,桂林电子科技大学电子工程系
【出 处】
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激光与红外
【发表日期】
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2007年2期
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