不同离焦量对TC4钛合金半导体激光气体渗氮的影响

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制造核电设备用钛合金需要进行激光气体渗氮,以提高钛合金表面硬度和耐磨性。离焦量是影响钛合金半导体激光气体渗氮的关键因素之一。保持其他工艺参数不变,分别采用5mm、10mm、15mm和20mm离焦量对TC4钛合金进行激光渗氮试验,分析渗氮层表面和横截面形貌,测量渗氮层硬度,拍摄渗氮层显微组织,对渗氮试样和TC4基体进行对比摩擦试验。结果表明,半导体激光器可对TC4钛合金表面渗氮,随着离焦量的增大,渗氮层尺寸减小,硬度降低,综合性能呈下降趋势。在本试验条件下,采用5mm离焦量的激光气体渗氮层综合性能最优,其最
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