【摘 要】
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系统研究两种不同形态的硅氧合金薄膜,用甚高频PECVD系统制备的非晶硅氧和纳米硅氧薄膜的特性,以及其在纳米硅薄膜叠层薄膜太阳电池中的应用.实验中主要通过对不同的气体流量
【机 构】
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北京工业大学,北京,100124;汉能光伏集团双流研发中心,双流,610200;四川汉能光伏有限公司,双流,610200
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系统研究两种不同形态的硅氧合金薄膜,用甚高频PECVD系统制备的非晶硅氧和纳米硅氧薄膜的特性,以及其在纳米硅薄膜叠层薄膜太阳电池中的应用.实验中主要通过对不同的气体流量比的优化、沉积功率和沉积压力的优化,分别制备出光学带隙约为2.1 eV,折射率约为3的a-SiOx∶B∶H薄膜,作为非晶硅顶电池的pl层,以及带隙为2.2～2.5 eV,折射率为2.0～2.5,晶化率为20％～50％的nc-SiOx∶P:H薄膜,作为非晶硅/纳米硅叠层电池的中间反射层和纳米硅的底电池n2层.最后将优化后的a-SiOx∶B∶H和nc-SiOx∶P∶H薄膜应用到非晶硅/纳米硅薄膜叠层电池中,在0.79 m2的玻璃基板上制备出初始峰值功率为101.1 W、全面积初始转换效率为12.8％、稳定峰值功率为87.3 W、全面积稳定转换效率为11.1％的非晶硅/纳米硅叠层电池.
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