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为了制订功夫在大豆上安全使用标准，采用田间试验了研究了功夫在大豆茎叶和土壤中的残留动态，应用ＧＬＣ法测定了功夫在青事，成熟大豆和土壤中的残留量。２年的试验结果表明，功夫在大豆茎叶和土壤中消失较快，其半衰期分别为６．６－７．１ｄ和６．７－１１．６ｄ。施药量为１５ｇ／ｈｍ＾２，施药２次，收获时土壤中的残留量为０．００８ｍｇ／ｋｇ；在青豆和成熟大豆中残留量均低于最低检测浓度。