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为了给脉冲激光沉积（PLD）法沉积大面积均匀薄膜的应用提供相关的理论依据，以纯铝块作为靶材，采用PLD法在同轴和旁轴两种模式下对比研究了Al薄膜的厚度均匀性。同时，在旁轴的沉积模式下分别研究了基片温度、激光功率和重复频率对Al薄膜沉积速率的影响规律。实验结果表明，采用PLD方法在旁轴的沉积模式下获得的Al薄膜的厚度更加均匀。随着基片温度的增加，薄膜的沉积速率反而降低。升高激光功率，薄膜的沉积速率也随之提高。而在激光重复频率的变化过程中，Al薄膜的沉积速率有一最大值。