【摘 要】
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镀膜靶材作为物理气相沉积方法制备薄膜的沉积源材料,广泛应用于机械加工、半导体集成电路、磁记录和平面显示等产业中。在机械加工产业中,硬质涂层提高了部件的机械加工效率
【机 构】
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钢铁研究总院,安泰科技股份有限公司,北京市镀膜靶材重点实验室,四川大学分析测试中心
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(51275323)
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镀膜靶材作为物理气相沉积方法制备薄膜的沉积源材料,广泛应用于机械加工、半导体集成电路、磁记录和平面显示等产业中。在机械加工产业中,硬质涂层提高了部件的机械加工效率、延长了部件的使用寿命,具有很高的经济效益。物理气相沉积过程中,镀膜靶材以溅射或弧蒸发的方式制备硬质涂层,其质量好坏将直接影响硬质涂层的物理及力学性能,是涂层技术的重要组成部分。本文对用于制备硬质涂层镀膜靶材的种类、技术要求、制备方法和研究现状做了概述。
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