【摘 要】
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前言近年来,真空溅射技术在真空镀膜工艺中越来越受到人们的重视。它与蒸发镀膜相比,有如下优点:可以沉积高熔点金属、非金属薄膜;溅射合金材料时,可以得到与原材料成分比例
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前言近年来,真空溅射技术在真空镀膜工艺中越来越受到人们的重视。它与蒸发镀膜相比,有如下优点:可以沉积高熔点金属、非金属薄膜;溅射合金材料时,可以得到与原材料成分比例相同的薄膜;与惰性气体中混合的不同气体(氧、氮等)反应可以制得氧化物或氮化物薄膜;沉积的薄膜与基体附着力强、针孔少;材料的利用率高,靶材消耗
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