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利用磁控溅射法制备Substrate/Seed Ta（5nm）/Co75Fe25（5nm）/CapTa（8nm）铁磁膜,通过透射电镜（TEM）、选区电子衍射（SAED）和X射线衍射（XRD）等分析测试手段,研究Ga＋离子辐照对CoFe磁性薄膜的矫顽力及薄膜的组织、结构的影响,利用SRIM2003软件模拟分析离子辐照后Ga、Ta等元素在CoFe薄膜中的深度分布情况。研究结果表明：采用低剂量（〈1×1013ion·cm-2）的Ga＋离子辐照对薄膜的矫顽力和磁性薄膜的组织、结构影响不大 随着