【摘 要】
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采用真空阴极电弧离子镀在不同基体材料上镀ZrN涂层，试验研究了ZrN薄膜的沉积工艺与性能，分析了基体偏压和沉积真空度对ZrN薄膜显微结构与性能的影响。XRD结果表明，随着偏压升高
【机 构】
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华南理工大学材料与工程学院,广州有色金属研究院
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采用真空阴极电弧离子镀在不同基体材料上镀ZrN涂层，试验研究了ZrN薄膜的沉积工艺与性能，分析了基体偏压和沉积真空度对ZrN薄膜显微结构与性能的影响。XRD结果表明，随着偏压升高和炉底真空度的降低，ZrN（111）衍射峰逐渐增强，而（200）衍射峰逐渐减弱；炉底真空度降低，试样表面液滴状况明显变好。
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