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采用反应性磁控溅射法制备了NiOx薄膜，并结合椭圆偏振仪、XRD和XPS研究了溅射参量对其光学常量的影响．NiOx薄膜的光学常量随着O2／Ar流量比的增大而减小；热退火后，折射率增大而消光系数下降了50％；溅射功率越大折射率也越大，而工-作气压越大折射率反而越小．这些变化分别与薄膜中存在间隙O和Ni空位、NiOx分解以及NiOx薄膜的致密度有关．