溅射参数相关论文
氮化钛薄膜具有出色的涂层性能，如高硬度、低电阻率和良好的耐蚀耐磨性等，在汽车、航空航天和生物医学中有着广泛的应用。磁控溅射技......
采用在线中频磁控溅射设备对掺Al的Si单质靶在N2气氛下进行反应溅射，在1245×635mm2的SLG上均匀沉积了SiNx薄膜，研究了溅射参数对SiN......
SmCo/Cr薄膜是一种很具开发潜力的高密度磁记录介质,其中Cr底层对SmCo薄膜磁学性能有很大影响.本文研究了磁控溅射参数对Cr底层晶......
高温超导材料是当代凝聚态物理中最重要的研究领域之一,也是新材料科学研究领域一个重要的科学前沿。高温超导材料自从发现之日起,......
钼及钼合金被广泛应用于矿业、化工、航空航天、核工业等诸多领域。但其在高温有氧环境中易氧化,应用受限。因此,研究并改善钼及钼......
利用磁控溅射法在FTO玻璃上制备了Sn S薄膜。采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和紫外可见分光光度计对不同溅射参数下制备的Sn S薄......
采用反应性磁控溅射法制备了NiOx薄膜,并结合椭圆偏振仪、XRD和XPS研究了溅射参量对其光学常量的影响.NiOx薄膜的光学常量随着O2/A......
为了增强合金表面的耐磨性和耐蚀性,提高合金的使用寿命,磁控溅射硬质膜层近年来受到广泛的研究.介绍了磁控溅射技术的原理及特点,......
通过对溅射过程中辉光放电视现象及薄膜沉积速率的研究,发现随着氮浓度的增大,靶面上形成一层不稳定的AIN层,由于AIN的溅射速率远......
本文采用射频磁控溅射法,在Si(100)衬底上制备出了高质量的碳化硅(SiC)薄膜.主要研究了溅射参数对沉积SiC薄膜结构的影响,探索了Si......
该文的主要内容包括以下几个方面的研究工作:激光致相变材料的结晶特性;溅射工艺参数对ZnS-SiO介质薄膜结构和光学性质的影响;溅射......
ITO薄膜被认为是光电综合性能最优的透明导电氧化物薄膜之一,其在工业上也有广泛的应用,但是ITO薄膜的原料金属铟资源稀少,因此近......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
研究了溅射参数对 Ge2 Sb2 Te5 薄膜的光学常数随波长变化关系的影响 ,结果表明 :(1)当溅射功率一定时 ,随溅射氩气气压的增加 Ge2......
期刊
采用有交互作用的正交实验方法对磁控溅射法在玻璃基片上制备FePt／Ag纳米双层膜Ag底层的溅射参数进行研究．通过直观分析，方差分析和XR......
在SmCo/Cr薄膜中,Cr底层的取向结构对薄膜的磁学性能有很大的影响.设计了4因素3水平的正交实验L9(34),并通过数理统计的方法分析了......
为了弥补InP基材料的压电性,促使单片声—光器件和系统的应用,采取在InP基片上沉积具有择优取向和微细结构的高质量ZnO薄膜.研究了......
研究了溅射参数对Ge2Sb2Te5薄膜的光学常数随波长变化关系的影响。结果表明：（1）当浅射功率一定时，随溅射氩气气压的增加Ge2Sb2Te5薄膜......
采用射频磁控溅射法在SrTiO3衬底上制备YIG薄膜,基于薄膜的成核理论研究溅射参数对薄膜结晶性、表面形貌和磁性的影响。结果表明,......
利用正交设计分析了直流磁控溅射中溅射气压，衬底温度和N2浓度对SiO2/Si衬底上制备的AIN薄膜的（002）择优取向的影响水平。利用X-射线......
采用反应性磁控溅射法制备了NiOx薄膜，并结合椭圆偏振仪、XRD和XPS研究了溅射参量对其光学常量的影响．NiOx薄膜的光学常量随着O2／Ar流......
采用反应射频磁控溅射方法，在玻璃基底上成功制备出了氮化铜（Cu3N）薄膜，并研究了溅射参数对Cu3N薄膜的结构和性能的影响，结果显示，随着溅......
对直流磁控溅射方法制备Fe—Si化合物的工艺过程进行了研究．首先通过改变溅射气压，溅射功率和Ar气流量，在Si（100）衬底上沉积约100nm纯金......
为研究磁控溅射对纺织材料性能的影响,利用JPGF-450I型磁控溅射镀膜机,以锦纶织物为基材,制备纳米铝膜。通过改变溅射功率、工作压......
梯度薄膜是一种涂覆型梯度材料，具有均质薄膜无法比拟的优越性。溅射法效率较高且环保，较广泛地应用于梯度薄膜的制备。对于反应溅射......
磁记录存储系统中通常使用复合磁头，它包含两部分：一是写入信息的软磁薄膜写磁头，另一个是读取信息的GMR读磁头。这两部分性能的优劣......
利用磁控溅射在不同Ar气压下制备了不同膜厚的FePt薄膜。利用透射电镜（TEM）研究了溅射气压和膜厚对薄膜形貌的影响，利用振动样品磁强......
利用直流磁控溅射的方法制备Ni80Cr20合金薄膜，以氩气流量、氩气工作压强、溅射功率作为三因素进行正交试验，在溅射时间相同的条件下......
采用直流磁控溅射法制备SmCo/Cr薄膜磁记录材料, 通过改变Cr底层制备过程中的功率、靶基距、溅射压强和溅射时间, 得到了磁性能不......
掺铝氧化锌（AZO）透明导电薄膜作为一种性能优异的多功能材料引起了研究人员的普遍关注，被认为是当前极具发展潜力的传统铟锡氧化物（ITO......
通过先后调整溅射沉积时间、溅射功率以及溅射气压等镀膜参数,然后结合所镀样品的反射率测量,分析了镀膜参数对铝膜反射率的影响;......
