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<正> 半导体集成电路的图样越来越微细化。目前为了16MDRAM已开发了0.5μmLSI,而且还开始了准备用于64MDRAM的0.3μm以下的LSI的研究。在生成这样微细的图样时,附
半导体工业的异物检测技术
【摘 要】
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<正> 半导体集成电路的图样越来越微细化。目前为了16MDRAM已开发了0.5μmLSI,而且还开始了准备用于64MDRAM的0.3μm以下的LSI的研究。在生成这样微细的图样时,附
【机 构】
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北京理工大学
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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1990年1期
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