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采用电子束反应蒸发金属铪、APS离子辅助反应蒸发氧化铪、RF离子辅助反应蒸发氧化铪三种方式制备了单层HfO2薄膜，对样品的光学性能、结构特性以及抗激光损伤特性进行研究，结果表明，离子辅助使氧化铪薄膜更为致密；电子束蒸发氧化铪薄膜为非晶态，离子辅助制备氧化铪薄膜为晶态。选择合适的离子辅助工艺，有利于降低薄膜的缺陷吸收，提高氧化铪薄膜的抗损伤性能。