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专利申请号:CN200610013056.6本发明涉及反铁磁耦合的磁性颗粒薄膜材料及其制备和应用,组成为Fex(TiO2)1-x,其中X为铁的金属颗粒所占的体积百分比,0.40〈x〈0.76。本发明是采用直流磁控溅射技术,在氩气和氧气的混合气氛中,控制铁靶的溅射功率沉积。基片为玻璃、石英、聚酯、单晶硅、单晶砷化镓等,溅射时基片不加热。