论文部分内容阅读
专利申请号：CN200610013056．6本发明涉及反铁磁耦合的磁性颗粒薄膜材料及其制备和应用，组成为Fex（TiO2）1-x，其中X为铁的金属颗粒所占的体积百分比，0．40〈x〈0.76。本发明是采用直流磁控溅射技术，在氩气和氧气的混合气氛中，控制铁靶的溅射功率沉积。基片为玻璃、石英、聚酯、单晶硅、单晶砷化镓等，溅射时基片不加热。