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分别采用单槽法和双槽法电沉积制备Cu／Ni多层膜．研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件，并利用俄歇电子能谱和扫描电子显微镜(SEM)确定镀层结构．通过对比，分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点．
电沉积纳米金属多层膜研究
【摘 要】
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分别采用单槽法和双槽法电沉积制备Cu／Ni多层膜．研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件，并利用俄歇电子能谱和扫描电子显微镜(SEM)确定镀层结构．通过对比，分析了单槽法和双槽
【机 构】
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天津大学化工学院
【出 处】
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天津大学学报
【发表日期】
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2001年2期
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