【摘 要】
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本文综述了超大规模集成电路制造过程中硅片溶液清洗技术的研究历史及现状，并对技术的未来发展进行了展望。
This paper reviews the research history and current status o
【机 构】
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山东大学化学学院!济南250100,山东大学化学学院!济南250100,山东大学光电子材料与器件研究所及国家电子清洗技术研究推广中心!济南250100,山东大学光电子材料与器件研究所及国家电子清洗技术
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本文综述了超大规模集成电路制造过程中硅片溶液清洗技术的研究历史及现状，并对技术的未来发展进行了展望。
This paper reviews the research history and current status of wafer solution cleaning technology in the manufacturing process of VLSI chips, and prospects the future development of the technology.
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