【摘 要】
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提出一个利用多层膜小角X射线衍射谱衍射峰积分强度计算多层膜界面粗糙度的公式.用磁控溅射技术制备Mo/Si多层膜,用波长为0.154 nm的硬X射线测量样品在小掠入射角区的衍射曲
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提出一个利用多层膜小角X射线衍射谱衍射峰积分强度计算多层膜界面粗糙度的公式.用磁控溅射技术制备Mo/Si多层膜,用波长为0.154 nm的硬X射线测量样品在小掠入射角区的衍射曲线,分别用本文公式和反射率曲线拟合方法计算了样品的界面粗糙度.实验结果表明:由本文公式获得的界面粗糙度近似于拟合方法获得的界面粗糙度,它们略等于多层膜界面实际粗糙度.
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