光学邻近效应的产生机理分析

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基于部分相干成像理论,考虑了投影曝光系统成像的非线性滤波特点,分析了投影光刻中的光学邻近效应(OPE)产生的机理,模拟了掩模上线条的线宽,线间距的变化对光刻成像质量的影响。
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