【摘 要】
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继GCA公司1976年发明步进投影光刻机之后,日本NIKON公司于1979年下半年也开始了这种新型曝光设备的研制,1980年底推出了第一台10:1缩小投影片子步进机NSR—1010G。该公司充
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继GCA公司1976年发明步进投影光刻机之后,日本NIKON公司于1979年下半年也开始了这种新型曝光设备的研制,1980年底推出了第一台10:1缩小投影片子步进机NSR—1010G。该公司充分发挥其先进的光学加工技术优势,采用了自己制造的数值孔径达0.35的高性能镜头,在成象能力上较GCA4800机镜头(NA0.28)技高一筹,因而很快占领了市场,形成批量生产。
Following the introduction of GCA’s step-and-step projection lithography machine in 1976, NIKON Corporation of Japan started the development of this new type of exposure equipment in the second half of 1979. The first step-down 10: 1 projection film stepper NSR -1010G. Taking full advantage of its advanced optical processing technology, the company adopted its own high-performance lens with a numerical aperture of 0.35, which surpassed the imaging capability of the GCA4800 lens (NA0.28) , Forming a mass production.
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