【摘 要】
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我们采用脉冲激光淀积方法在（１００）ＳｒＴｉＯ３基底上制备了ａ轴取向外延的ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－ｘ薄膜．通过采用活性氧，降低氧压和淀积速率，制备出了Ｔｃ超过８０Ｋ、表面平均粗糙度为４．４３ｎｍ的薄膜．Ｘ射线衍射谱表明，实验得到的ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－ｘ外延薄膜是
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我们采用脉冲激光淀积方法在（１００）ＳｒＴｉＯ３基底上制备了ａ轴取向外延的ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－ｘ薄膜．通过采用活性氧，降低氧压和淀积速率，制备出了Ｔｃ超过８０Ｋ、表面平均粗糙度为４．４３ｎｍ的薄膜．Ｘ射线衍射谱表明，实验得到的ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－ｘ外延薄膜是高度Ａ轴取向的
We prepared a-axis epitaxial YBa2Cu3O7-x thin films on (100) SrTiO3 substrates by pulsed laser deposition. By using reactive oxygen species, reducing the oxygen pressure and deposition rate, a thin film with a Tc of over 80K and a surface average roughness of 4.43 nm was prepared. X-ray diffraction spectrum shows that the experimental YBa2Cu3O7-x epitaxial film is highly A-axis orientation
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