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利用射频磁控溅射技术，使用TiN化舍物靶，以不锈铜为基底在不同负偏压下沉积TiN薄膜，并通过共溅射获得掺Ag的Ag-TiN复合膜．分别利用XRD、纳米压痕仪、扫描电子显微镜（SEM）和光学接触角测量仪等对样品的晶体结构、硬度、微观形貌和水接触角进行测试．结果表明：在较低负偏压下获得的薄膜为Ti2N，表现为四方相；在较高负偏压下沉积的薄膜为立方相TiN，呈现（111）择优取向，薄膜表面呈三角棱椎形貌，薄膜硬度明显提高；Ag-TiN复合膜中的Ag元素以单质多晶的形式存在．当偏压为-130V时，TiN薄膜（11