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对３５５ｎｍ激光烧蚀沉积Ｔａ２Ｏ５薄膜的过程进行了研究。由时间分辨四极质谱测得烧蚀Ｔａ２Ｏ５产生的正离子有Ｔａ＾＋，Ｏ＾＋，ＴａＯ＾＋和ＴａＯ２＾＋，中性粒子在Ｏ、Ｔａ、ＴａＯ和ＴａＯ２，并测定了它们的飞行时间谱，在不同压强的Ｏ２气氛下，由测得的时间分辨发光光谱表明，烧蚀产物在向基片飞行过程中发生了氧化反应。对沉积薄膜的组成分析表明，钽及其氧化物在基片上存在进一步氧化过程。