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用5微米工艺设备加工1—2微米窄条的光刻
用5微米工艺设备加工1—2微米窄条的光刻
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wxj1208
【摘 要】
:
本文介绍了利用现有5μm工艺设备进行1~2μm窄条的光刻技术,着重对光刻SiO_2窄条和金属连线方面作了具体的介绍。对优化的“发射区两次错位光刻”和“多晶发射极自对准”工艺
【作 者】
:
李晓红
钟秉福
【机 构】
:
机电部24所,机电部24所重庆永川632167,重庆永川632167
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
1991年6期
【关键词】
:
半导体器件
光刻
工艺
设备
Resolution
Photolithography
Semiconductor process
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本文介绍了利用现有5μm工艺设备进行1~2μm窄条的光刻技术,着重对光刻SiO_2窄条和金属连线方面作了具体的介绍。对优化的“发射区两次错位光刻”和“多晶发射极自对准”工艺技术作了较详细的叙述。
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