【摘 要】
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首次将插层纳米复合技术与互穿聚合物网络(IPN)技术相结合,通过同步插层聚合法制备了聚氨酯/聚甲基丙烯酸甲酯/有机蒙脱土(PU/PMMA/OMMT)纳米复合材料.XRD、SEM、TGA等研究表
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首次将插层纳米复合技术与互穿聚合物网络(IPN)技术相结合,通过同步插层聚合法制备了聚氨酯/聚甲基丙烯酸甲酯/有机蒙脱土(PU/PMMA/OMMT)纳米复合材料.XRD、SEM、TGA等研究表明,在聚氨酯/有机蒙脱土(PU/OMMT)体系中蒙脱土以40～700 nm的团聚体不均匀地分散在聚氨酯基体中,且部分蒙脱土被插层,其层间距增加了0.95nm,体系为插层型纳米复合材料.PU/PMMA/OMMT体系中蒙脱土以20～80nm的粒子分布于聚合物基体中,且蒙脱土的插层效果显著,是PU/OMMT体系的2.5倍,
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