一种非均匀掺杂的全耗尽S0I-MOSFET阈值电压模型

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:huangxiaojuan
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
对垂直于沟道的二维电势分布函数提出了一种新的近似,给出了基于这种近似的杂质浓度呈高斯分布的非均匀掺杂全耗尽SOI-MOSFET的阈值电压解析模型,模型结果与MEDICI数值模拟结果符合得很好,表明了模型的准确性,这为实践中分析与控制非均匀掺杂的全耗尽SOI-MOSFET的阈值电压提供了一种新的途径。
其他文献
设计了一个能够实时监测油田油压和温度,且自动存储测试数据的智能型测试仪。由压力传感器PTP501采集到的模拟信号经仪表放大器AD620放大后,送入单片机P89LPC938进行模/数转
【正】同学们都知道锋面、气旋和反气旋两大类天气系统的特点,然而对于锋面气旋系统,课本中仅仅简单地提到它的概念和一幅锋面气旋图,这使有的同学对其形成、发展和消亡的过
微生物对外界环境的变化具有灵活的适应性,通过代谢网络的通量可变性分析可以对代谢灵活性进行量化,得到影响菌体代谢灵活性的因素。使用代谢流分析软件COBRA Toolbox,对克雷
通过求解泊松方程得到了双栅肖特基势垒MOSFET的解析模型. 这个解析模型包括整个沟道的准二维电势分布和适用于短沟双栅肖特基势垒MOSFET的阈值电压模型.数值模拟器ISE DESSI
用斜置式四探针测定了硅单晶片(Ф75mm)上3mm间距测试点的电阻率分布.本文从电阻率的统计分布出发,确定了电阻率的分隔数和差值,采用指数函数作为模糊集的隶属度,并且选择合适
利用MBE外延材料和接触式光学光刻方式,成功制备出1.0μm栅长GaAs基MHEMT器件,分别蒸发Pt/Ti/Pt/Au和Ti/Pt/Au作为栅电极金属.获得了优越的DC和RF性能,Pt/Ti/Pt/Au和Ti/Pt/Au
近年来,随着建筑行业的不断发展,科技与创新越来越多的融入到建筑行业当中,装配式建筑逐渐成为建筑行业新的发展方向,装配式建筑与传统建筑相比,更加高效、节能、环保,给传统
使用热丝化学气相沉积技术制备微晶硅薄膜(沉积速度为1.2nm/s),通过原子力显微镜研究了薄膜前期生长的粗糙化过程.按照标度理论获得微晶硅薄膜的生长因子为β≈0.67,粗糙度因子
高中信息技术学科的核心素养为信息意识、计算思维、数字化学习与创新、信息社会责任四个部分。微时代给教学提供了更多的方式、渠道、平台、资源,如果合理运用,对教师的教和
基于对变电站电气自动化控制系统分析及其应用的研究,首先,阐述变电站电气自动化控制方式,其中包括集中控制方式、远程监控方式。然后,分析变电站电气自动化控制系统在电气管