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利用原子层沉积方法制备V2O5纳米片晶薄膜.薄膜厚度可以被精确控制,并对纳米晶V2O5薄膜的结构形貌、光学带隙和拉曼振动有显著影响.原子层沉积过程中V2O5薄膜生长的两个阶段导致薄膜具有两个光学带隙,这将有助于理解超薄薄膜生长与功能应用.
厚度与带隙可调、原子层沉积的超薄五氧化二钒纳米晶薄膜（英文）
【摘 要】
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利用原子层沉积方法制备V2O5纳米片晶薄膜.薄膜厚度可以被精确控制,并对纳米晶V2O5薄膜的结构形貌、光学带隙和拉曼振动有显著影响.原子层沉积过程中V2O5薄膜生长的两个阶段
【机 构】
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中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室; 中国科学院大学;
【出 处】
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红外与毫米波学报
【发表日期】
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2004年期
【基金项目】
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Supported by the National Key R&D Program of China(2016YFA0202200);Youth Innovation Promotion Association,CAS
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