【摘 要】
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本文采用原子力显微镜（AFM）和XRD研究了生长在蓝宝石（11-02）基片上的CeO2缓冲层在不同的退火温度和退火时间下表面形貌和相结构的变化,以及对Tl-2212薄膜超导特性的影响。AFM和XR
【机 构】
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广西师范学院物理与电子工程学院,南开大学信息技术科学学院,中国电子科技集团公司第16研究所
【基金项目】
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国家重点基础研究发展计划（973）项目（No.2006CB601006）,国家高技术研究发展计划（863）（No.2006AA03Z213）,广西高校优秀人才资助计划项目（No.RC2007024）
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本文采用原子力显微镜（AFM）和XRD研究了生长在蓝宝石（11-02）基片上的CeO2缓冲层在不同的退火温度和退火时间下表面形貌和相结构的变化,以及对Tl-2212薄膜超导特性的影响。AFM和XRD研究表明,CeO2薄膜在流动氧环境中退火,表面形貌发生显著的变化;CeO2薄膜在最佳条件下退火后,可获得原子级光滑表面,结晶质量明显提高。实验结果表明,缓冲层的结晶质量和表面粗糙度与Tl-2212薄膜的超导特性密切相关。在经过最佳条件退火后的CeO2缓冲层上制备了厚度为500nm无裂纹的Tl-2212超导薄膜,
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