【摘 要】
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采用电子束物理气相沉积（EB-PVD）的方法在第二代镍基单晶高温合金N5上先后沉积Ru层和NiAlHf涂层。利用X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、能谱仪（EDS）等研究Ru/NiAlHf涂层与合金基体在1
【机 构】
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北京航空航天大学材料科学与工程学院
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（50771013）, 国家重点基础研究发展计划资助项目（2010CB631200）, 新世纪优秀人才支持计划资助项目
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采用电子束物理气相沉积（EB-PVD）的方法在第二代镍基单晶高温合金N5上先后沉积Ru层和NiAlHf涂层。利用X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、能谱仪（EDS）等研究Ru/NiAlHf涂层与合金基体在1 100℃的界面上的互扩散行为及高温循环氧化性能。结果表明：在扩散初期,涂层与合金基体界面上处形成了不连续的Ru2AlTa相,该相有效抑制了高温合金基体中难熔元素的外扩散,而当扩散时间延长至100 h时,该相消失,同时合金基体中形成了少量拓扑密堆相（P-TCP）,但未形成二次反应区（SRZ）。Ru
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