S频段pHEMT双通道低噪声放大器芯片的设计

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采用GaAs 0.13μmp HEMT MMIC流片工艺设计和制作了一种S频段双通道低噪声放大器芯片,芯片内部集成了两个低噪声放大器通道、一级单刀双掷(SPDT)开关和一个晶体管-晶体管逻辑(TTL)电平转换电路。低噪声放大器电路采用一级共源共栅场效应管(Cascode FET)结构实现,使其具有比单管更高的增益,简化了芯片拓扑,降低了芯片设计难度。经流片测试,在1.9~2.1GHz的工作频带内,芯片噪声系数优于1.4dB,增益大于22.5dB,输入驻波优于1.8,输出驻波优于1.4,输出1dB压缩点(P1dB)为10dBm。大量芯片样本在片测试统计数据表明该低噪声放大器成品率大于90%,性能指标优于目前同类商业芯片指标。 An S-band dual-channel LNA chip is designed and fabricated using GaAs 0.13μmp HEMT MMIC chip technology. The chip integrates two LNA channels, one SPDT switch and one transistor-transistor logic (TTL) level conversion circuit. The LNA circuit adopts a cascode FET structure, which has a higher gain than single-tube, simplifies the chip topology and reduces the chip design difficulty. The chip test shows that the chip noise figure is better than 1.4dB, the gain is greater than 22.5dB, the input standing wave is better than 1.8, the output standing wave is better than 1.4 and the output 1dB compression point (P1dB) is 10dBm. A large number of chip samples in the chip test statistics show that the low noise amplifier yield greater than 90%, the performance index is superior to the current similar commercial chip indicators.
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