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日本ULVAC和美国JDSU开发成功低缺陷光学薄膜溅镀设备
日本ULVAC和美国JDSU开发成功低缺陷光学薄膜溅镀设备
来源 :表面工程资讯 | 被引量 : 0次 | 上传用户:huangyp2002
【摘 要】
:
日本爱发科(ULVAC)和美国JDS Uniphase公司(JDSU)开发出了能够高效生产缺陷仅为原来1/10的光学薄膜的溅镀设备“ULDiS-200UCP”。该设备采用JDSU的专利技术“Meta-mode”,由爱发科
【出 处】
:
表面工程资讯
【发表日期】
:
2006年6期
【关键词】
:
光学薄膜
设备
开发
溅镀
缺陷
美国
日本
高效生产
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日本爱发科(ULVAC)和美国JDS Uniphase公司(JDSU)开发出了能够高效生产缺陷仅为原来1/10的光学薄膜的溅镀设备“ULDiS-200UCP”。该设备采用JDSU的专利技术“Meta-mode”,由爱发科开发。爱发科将以欧美以外的亚洲为中心进行销售。
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