长脉冲激光辐照下单层Hf02薄膜的温度场分析

来源 :应用光学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dingz450519
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激光系统中的光学薄膜极易受到高能激光的辐照而产生热损伤,因此研究长脉冲激光作用下光学薄膜的温度场非常重要。建立了二维轴对称杂质模型,使用有限元方法计算了单层HfO。薄膜材料的瞬态温度分布,进一步分析了铂金杂质粒子的吸收系数、填满深度对膜层及其基底最大温升的影响。结果表明:相比于纯净HfO2薄膜,当薄膜中杂质粒子深度为100nm时,其表面最大温度增加1倍左右;当粒子深度大于750nm时,基底温度高于薄膜表面温度,从而可以使热损伤从薄膜基底开始。研究结果对于长脉冲激光系统中的光学薄膜的制备和预处理,具有一定的
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