【摘 要】
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目的 探讨不同中波紫外线照射对角质形成细胞干细胞因子/kit表达及黑素细胞迁移的影响.方法 不同剂量的311 nm窄谱中波紫外线(NB-UVB)及308 nm单频准分子光(MEL)照射培养的Ha
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目的 探讨不同中波紫外线照射对角质形成细胞干细胞因子/kit表达及黑素细胞迁移的影响.方法 不同剂量的311 nm窄谱中波紫外线(NB-UVB)及308 nm单频准分子光(MEL)照射培养的HaCaT角质形成细胞株,ELISA方法测定培养上清液中干细胞因子含量,培养上清液作为条件化培养基培养A375黑素瘤细胞,RT-PCR测定A375细胞c-kit mRNA的表达,微孔滤膜法测定A375细胞迁移功能的变化.结果 不同剂量的NB-UVB和MEL照射HaCaT细胞均可使干细胞因子分泌增加,其分泌量与照射剂量呈剂量依赖关系.用所收集的条件化培养基处理A375细胞,后者干细胞生长因子受体kitmRNA的表达显著上调,迁移功能亦显著增加.相同剂量的NB-UVB和MEL照射,对角质形成细胞干细胞因子/kit表达及黑素细胞迁移的影响无显著差异.结论 NB-UVB和MEL两种波长紫外线照射均可通过同时上调角质形成细胞干细胞因子和黑素细胞kit的表达,增加黑素细胞的迁移.
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