【摘 要】
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目前,在半导体工业中,干刻蚀占所有刻蚀方法中的20%,其余为湿化学刻蚀方法。然而,湿化学方法已经达到了其极限,因此,在十年内,上述两种方法所占的比例将会颠倒过来。离子束
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目前,在半导体工业中,干刻蚀占所有刻蚀方法中的20%,其余为湿化学刻蚀方法。然而,湿化学方法已经达到了其极限,因此,在十年内,上述两种方法所占的比例将会颠倒过来。离子束加工,无论在微电子学还是在光学器件工业中,正得到越来越广泛的应用。
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