【摘 要】
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以T型通道为基本模型,考查其交接面处安装横向阵列叶片作用下的支流的湍流流场.采用粒子图像速度场仪(PIV),对不同主流速度和抽吸比工况下支流下游流场进行了实验测量,通过对
【机 构】
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西安交通大学能源与动力工程学院,西安,710049
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以T型通道为基本模型,考查其交接面处安装横向阵列叶片作用下的支流的湍流流场.采用粒子图像速度场仪(PIV),对不同主流速度和抽吸比工况下支流下游流场进行了实验测量,通过对粒子图像计算处理得到了支管中心截面在不同实验工况下的瞬态矢量-速度云图及瞬态涡量-流线云图.所考察的主流速度范围是30.0～50.0 m/s,速度比的范围是0.08～0.18.实验观察到在T型通道支路靠近上壁面一侧存在与支路气流方向相反的回流流动,并产生了明显的旋涡串现象,该区域速度较小且回流区的范围超过一半流道面积;顺流高速区主要位于支管下壁面附近;主流速度和抽吸比较大时支管流动较为均匀.
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