论文部分内容阅读
研制出了适合于磁性电子元器件表面平坦化加工用的抛光剂，该抛光剂磨料选用超细α-Al2O3微粉。通过对磨料化学纯度的处理、表面包裹处理、抗静电处理、分散剂等方面研究试验，对抛光剂悬浮性、酸碱性、润滑性、可擦性等方面进行检测，结果表明：该抛光剂具有高浓度、低粘度和高分散稳定性，抛光效率高，具有良好的抗静电性和可擦性。抛光荆pH=6—8。抛光效率≥1．2μm／s，工件表面粗糙度Ra≤0.04μm。