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<正>本发明提供一种用于监控半导体加工过程的红外热电堆探测系统,它由以下几部分组成: 用于抽取加工过程气体的气体采样区; 红外辐射源,用于向气体采样区发射红外辐射; 热电堆探测器,用于接收透过气体采样区的红外辐射,并产生与所选气体成分的浓度有关的输出信号;
用于监控半导体加工过程的红外热电堆探测系统
【摘 要】
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<正>本发明提供一种用于监控半导体加工过程的红外热电堆探测系统,它由以下几部分组成: 用于抽取加工过程气体的气体采样区; 红外辐射源,用于向气体采样区发射红外辐射; 热电
【出 处】
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红外
【发表日期】
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2004年期
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