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齐纳二极管属于一种低压的稳压二极管,反向击穿电压稳定是它最重要的特点。在集成电路中生产制造中,如何使不同批次的晶圆上的齐纳管参数保持稳定,一直是工艺集成工程师的研究课题。对实际生产中经常出现的齐纳管耐压波动的问题,从器件结构原理、工艺流程等方面进行了深层次的剖析。结合工艺器件仿真,找出了几个影响器件耐压稳定性的主要因素。针对这些主要因素对工艺流程进行微调,调整后器件的击穿稳定性得到了显著提升。