论文部分内容阅读
利用漫反傅里叶变换红外（DRIFT）光谱技术，研究了氮化硅粉示纯样品和KBr稀释后样品的漫反射光谱的差别，并利用氮化硅粉末纯样品的DRIFT谱图，研究了四种商业氮化硅粉料初始及锻烧后的表面特征，研究发现，与KBr稀释的样品相比，氮化硅粉末纯样品的漫反射红外光谱在1190cm^-1波数处出现了对应于颗粒表面Si-O振动的尖锐强峰。所研究的四种商业氮化硅原始料漫反射光普有很大的差异，煅烧处理后粉料表面的氨基基因和Si-H消失，Si-O和Si-OH的数量显著增加。