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论述了边缘相移掩模的原理、制作方法和工艺步骤，并给出了一些实验结果。
边缘相移掩模技术
【摘 要】
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论述了边缘相移掩模的原理、制作方法和工艺步骤，并给出了一些实验结果。
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,中国科学院微电子中心
【出 处】
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光电工程
【发表日期】
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1997年S1期
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