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在不同溅射气压下,采用射频磁控溅射技术在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了钛酸铋(Bi4Ti3O12)薄膜。在较低的气压(0.45-0.8Pa)下,得到了单相的Bi4Ti3O12薄膜;在较高气压(1.0-1.8Pa)下,薄膜中出现Bi2Ti2O7焦绿石相;随着气压的增加,薄膜的沉积速率和晶粒尺寸先增大后减小,表面粗糙度也逐渐增加;在适宜的气压(0.6Pa)下,得到的Bi4Ti3O12薄膜物相单一、表面平整致密、结晶良好。