Fe-N软磁薄膜的性能及其磁场热处理后的各向异性模型

来源 :金属功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhubaoqiu

【摘要】

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本文报道了采用RF磁控溅射制备出了高性能的Fe-N薄膜,膜厚约200nm,磁场热处理后薄膜中含有α′和少量γ′,具有优质的软磁性能,饱和磁化强度2.4T,高于纯铁的,矫顽力小于80A/m

【作者】

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李洪明周剑平顾有松常香荣赵春生徐秀英田中卓

【机构】

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宣化县赵川镇中学,河北,075111中国科学院半导体研究所,半导体材料科学重点实验室,北京,100083;北京科技大学材料物理与化学系,北京,100083;

【出处】

：

金属功能材料

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

Fe-N薄膜磁学性能各向异性模型

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本文报道了采用RF磁控溅射制备出了高性能的Fe-N薄膜,膜厚约200nm,磁场热处理后薄膜中含有α′和少量γ′,具有优质的软磁性能,饱和磁化强度2.4T,高于纯铁的,矫顽力小于80A/m,2～10MHz下的磁导率为1500.然后提出一个模型,合理的解释了磁场热处理后薄膜表面的各向异性现象,包括不同方向的磁滞回线,剩磁比,矫顽力等.

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